酸化亜鉛+酸化ガリウム/ZnO+Ga2O3平型スパッタリングターゲット
親和物産株式会社ではドイツ・GfE社製の酸化亜鉛+酸化ガリウム/ZnO+Ga2O3平型スパッタリングターゲットを取り扱っています。
 [ ZnO+Ga2O3平型ターゲット顕微鏡写真 ] |
 [ ZnO+Ga2O3平型ターゲット外観 ] |
ZnO+Ga2O3平型ターゲットはプレス焼結及び機械加工にて製造されます。
【用途】
ZnO+Ga2O3平型ターゲットは、透明導電酸化物(TCO = Transparent Conductive Oxide)の膜形成用に使用されます。基本的にDCまたはパルスDCにてスパッタ、基板はガラスまたはフィルムになります。
【純度】
ZnO+Ga2O3 99.95%以上
【組成比】
Ga2O3: 5±0.1 wt%
※他の組成はお問合せください。
【サイズ】
厚み: 分割タイプで最大14mm
※他の平型ターゲットについては、こちらをご参照ください。
詳細は親和物産株式会社までメール、またはお電話 03(3503)6866 にてお問い合わせください。
